Semiconductor Patents
米国特許
- 特許番号4855798 登録日1989年8月8日 Yoichiro Imamura, Toshiyuki Kaeriyama, Hironori Ishimoto Semiconductor and process of fabrication thereof
- 特許番号5804479 登録日1998年9月8日 Hideo Aoki, Jun Murata, Yoshitaka Taadaki, Toshihiro Sekiguchi, Keizo Kawakita, Takashi Hayakawa, Katsutoshi Matsunaga, Kazuhiko Saaitoh, Michio Nishimura, Kazuhiko Saitoh, Michio Nishimura, Minoru Ohtsuka, Katsuo Yuhara, Michio Tanaka, Yuji Ezaki, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method for forming semiconductor integrated circuit device having a capacitor
- 特許番号5804034 登録日1998年9月8日 Toshiyuki Kaeriyama Method for manufacturing semiconductor device
- 特許番号5933724 登録日1999年8月3日 Toshihiro Sekiguchi, Yoshitaka Tadaki, Keizo Kawakita, Jun Murata, Katsuo Yuhara, Toshikazu Kumai, Michio Tanaka, Michio Nishimura, Kazuhiko Saitoh, Takatoshi Kakizaki, Takeshi Sakai, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device using a photomask in which transmitted light beam intensities are controlled
- 特許番号5933726 登録日1999年8月3日 Michio Nishimura, Kazuhiko Saitoh, Masayuki Yasuda, Takashi Hayakawa, Michio Tanaka, Yuji Ezaki, Katsuo Yuhara, Minoru Ohtsuka, Toshikazu Kumai, Songsu Cho, Toshiyuki Kaeriyama, Keizo Kawakita, Toshihiro Sekiguchi, Yoshitaka Tadaki, Jun Murata, Hideo Aoki, Akihiko Konno, Kiyomi Katsuyama, Takafumi Tokunaga, Yoshimi Torii Method of forming a semiconductor device have a screen stacked cell capacitor
- 特許番号5937290 登録日1999年8月10日 Toshihiro Sekiguchi, Yoshitaka Tadaki, Keizo Kawakita, Katsuo Yuhara, Kazuhiko Saitoh, Shinya Nishio, Michio Tanaka, Michio Nishimura, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method of manufacturing semiconductor integrated circuit devices using phase shifting mask
- 特許番号6060352 登録日2000年5月9日 Toshihiro Sekiguchi, Hideo Aoki, Yoshitaka Tadaki, Keizo Kawakita, Jun Murata, Katsuo Yuhara, Michio Nishimura, Kazuhiko Saitoh, Minoru Ohtsuka, Masayuki Yasuda, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method of manufacturing semiconductor device with increased focus margin
- 特許番号6077735 登録日2000年6月20日
Yuji Ezaki, Shinya Nishio, Fumiaki Saitoh, Hideo Nagasawa, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho, Hisao Asakura, Jun Murata, Yoshitaka Tadaki, Toshihiro Sekiguchi, Keizo Kawakita Method of manufacturing semiconductor device
- 特許番号6150214 登録日2000年11月21日 Toshiyuki Kaeriyama Titanium nitride metal interconnection system and method of forming the same
- 特許番号6528835 登録日2003年3月4日 Toshiyuki Kaeriyama Titanium nitride metal interconnection system and method of forming the same
- 特許番号6753219 登録日 2004年6月22日 Toshihiro Sekiguchi, Yoshitaka Tadaki, Keizo Kawakita, Hideo Aoki, Toshikazu Kumai, Kazuhiko Saitoh, Michio Nishimura, Michio Tanaka, Katsuo Yuhara, Shinya Nishio, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method of manufacturing semiconductor integrated circuit devices having a memory device with a reduced bit line stray capacity and such semiconductor integrated circuit devices
- 特許番号6753219 登録日2004年6月22日 Toshihiro Sekiguchi, Yoshitaka Tadaki, Keizo Kawakita, Hideo Aoki, Toshikazu Kumai, Kazuhiko Saitoh, Michio Nishimura, Michio Tanaka, Katsuo Yuhara, Shinya Nishio, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method of manufacturing semiconductor integrated circuit devices having a memory device with a reduced bit line stray capacity and such semiconductor integrated circuit devices
- 特許番号6969649 登録日2005年11月29日 Toshihiro Sekiguchi, Yoshitaka Tadaki, Keizo Kawakita, Hideo Aoki, Toshikazu Kumai, Kazuhiko Saitoh, Michio Nishimura, Michio Tanaka, Katsuo Yuhara, Shinya Nishio, Toshiyuki Kaeriyama, Songsu Cho Method of manufacturing semiconductor integrated circuit devices having a memory device with a reduced bit line stray capacity and such semiconductor integrated circuit devices
大韓民国特許
- 特許番号436784 登録日2004年6月10日
- 特許番号555002 登録日2006年2月17日
- 特許番号10-0573933 登録日2006年4月19日
台湾国特許
- 特許番号78427 登録日1996年9月20日
- 特許番号094623 登録日1998年9月15日
日本国特許
- 特許第2021064号 登録日1996年2月19日
- 特許第3336415号 登録日2002年8月9日
- 特許第3533037号 登録日2004年3月4日
- 特許第3729843号 登録日2005年10月14日
ヨーロッパ特許
- 特許番号EP0827195A1 1998 4.3 Improvements or relating to semiconductor device small contact formation by side wall necking
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改定日: 5/25 2016